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第430章 国产设备的惊喜 (3 / 7)
        那就在国产设备的可调范围里找最优解。

        之前他们卡在零点八，是因为梯度刻蚀的侧壁粗糙度已经压到一个平台，继续用窄而尖的光斑去修饰侧壁，边缘热影响区会很不均匀，越往下调，损耗改善越小。

        如果把光斑功率密度拉宽，用开环模式做更大的软件补偿，侧壁上形成的熔融层会更均匀，粗糙度也许能再往下。

        沈明轩拿起记号笔，在白板上画了两条曲线。

        一条窄而尖，是旧设备的光斑分布；一条宽而平，是华科样机能给出的分布。

        工程师陈宇航站在旁边，看着那条宽曲线：“沈博，这样耦合效率会不会掉？”

        “会掉一部分。”

        沈明轩在宽曲线中段画了一个圈：“但我们不要最高耦合效率，我们要侧壁更均匀的能量分布，先试这个窗口。”

        另一个工程师翻着工艺表：“那波导刻蚀后的热处理参数也要跟着改。”

        沈明轩点头：“三项一起动：光斑宽度、功率密度、补偿曲线，其他参数不动。”

        陈宇航看了眼旧记录：“这是新窗口，没有历史数据。”

        沈明轩把记号笔扣上：“没有就跑出来。”

        第一轮参数调整用了很久，华科精密的控制软件还带着早期样机的痕迹，有两个界面跳转不顺，一名工程师把问题记进联调清单，另一名工程师在控制台旁手动复核输入值。

        沈明轩没有催，他站在设备旁边，看着光源模块稳定下来，屏幕上的功率曲线从上下抖动慢慢收窄。

        样片被放入测试位，国产光源耦合设备启动，光信号进入波导，测试平台开始采集数据。

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