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第431章 功成不必在我 (6 / 8)
        辛梦真并非要因为这件事绑定在陈学兵的隐藏战线上，光刻机作为半导体的核心，迟早是要获得政府的大力支持才能继续发展的。

        陈学兵笑了起来：「政府推动不一定比得上市场化推动，而且政府的支持力度也要跟市场规模挂钩，我现在就在做大终端市场，也把握着一部分产业链，随时可以接入支持，光刻机的前端产业链则必须要自己来构建，实在不行，先接国际再谈国产嘛，我找您不就是做这个的？至于政府推动，我有渠道，这次和我同行香港的就有发改委高技术产业司的人，但要选择合适的时机接入，这个时机要根据技术进展而定。」

        「要达到什么技术进展？」辛廷烨皱眉。

        他是从小工厂一步步做起来的，虽然不是专业技术人员，但做技术攻关的时候，哪个工序要达到什么标准，他心里一定要有数。

        「不知道。」陈学兵却道。

        「不知道？」辛廷烨坐了起来，眉头更深了。

        「真的不知道。」陈学兵坦然道：「我的目标是自主可控，能够在任何情况下生产我需要的晶片。所以我会介入中芯国际，推动他们的多重曝光技术，推进位程，但是多重曝光的制程进展需要先进的浸没式DUV，所以往短了说，D的目标就是这个，如果再不行，D至少要具备本土化维修和二手设备翻新的能力，确保他们在被断供的时候就算无法继续探索先进世代，也能利用现有设备继续自主化生产，不至于连设备都没有。」

        「晶圆厂方面，除了多重曝光，也还有很多其他的方法，比如发展封装，叠罗汉，一块集成里面多包几块晶片，总之制程如果不能进步，晶片效能也要跟上国际，保障竞争力，不能让人家说停就停。」

        「所以光刻机厂能做到哪一步就做到哪一步，有能力探索国际先进概念EUV的情况下也绝不退缩，多一步技术自主，晶圆厂就少一分障碍。」

        陈学兵全然表达自己的想法，完成目标沟通。

        这个目标并不完美。

        有时他也在想一个问题：EUV他大概率做不出来，中芯国际也在前世搞到了浸没式DUV，并通过浸没DUV完成了7nm，甚至是等效5nm的极限生产，那他双轨投入，介入中芯的同时还支持光刻机研究，还有没有意义？

        越是了解，他就越是认为：非常有意义。

        强大的光刻机技术基底至少可以支持晶圆厂的生产良率，大幅度降低成本，增加竞争力。

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