第1711章 努力的方向 (5 / 7) 首页

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第1711章 努力的方向 (5 / 7)
        彼时,全球DRAM最尖端的三星工艺制程4到5nm,海力士和美光量产10nm;

        而在我们国内,19nm工艺已成功量产,17nm工艺即将推出,有的公司DRAM芯片产品最高制程工艺为25nm。

        别人都在量产5nm的时候,我们还在20nm左右推进。

        这就是差距。

        这种巨大的差距,注定我们的产品无法占据商用市场,更别说出国打天下。

        王林虽然不懂半导体行业,但他大概了解这个行业未来的走向。

        他既然决定进入这个行业,就肯定要从源头掌握核心技术。

        我国不缺市场!

        在全球DRAM市场中,我国占比40%!

        这么大的市场份额,足够养活一家比三星还要强大的公司了!

        王林想做存储芯片,但前提是要有自主的光刻技术和设备。

        这次出国,王林的行程,看似毫无章法,其实就是在寻找合适的光刻技术和设备。

        他和LG集团谈收购,在东洋收购企业,都是围绕着这个中心点在行动。

        这些企业,有的拥有先进的光刻设备,有的拥有相关的专利技术。

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